場所：京都府のイベント

第78回 CVD研究会

イベント説明

第78回CVD研究会を京都大学桂キャンパスにて,研究室見学会および5名の講師の方をお招きしての講演会を開催いたします。多数の方々のご参加をお待ちしています。なお、講演会終了後の技術交流会の開催は見送ります。
日 時 :令和4年12月2日(金)10:30 ～17:00
開催形式 :対面(一部オンラインでのご講演あり)
主 催 :CVD研究会
共 催 :京都大学工学研究科,化学工学会反応工学部会CVD反応分科会,
化学プロセス研究コンソーシアム ナノ材料プロセス研究グループ
協 賛 :近畿化学協会,表面技術協会,日本金属学会,化学工学会関西支部(予定)
場 所 :京都大学桂キャンパスA2棟305講義室(午前), A2棟306講義室(午後)
参 加 費 :CVD研究会会員 3,000円
共催・協賛学協会会員(大学・国公研) 5,000円
共催・協賛学協会会員(企業関係者) 10,000円
学生 1,000円
一般 15,000円
申込締切 :令和4年12月1日(木)12時
参加費は、クレジットカード払いでお願いします。請求書払いを希望される場合は、事務局にご相談ください。
(お問い合わせ先)
CVD研究会 (会長 河瀬元明, 事務局 影山美帆) e-mail: cvd@cheme.kyoto-u.ac.jp
〒615-8510 京都市西京区京都大学桂 Tel: 075-383-2663, Fax: 075-383-2653
(京都大学大学院工学研究科化学工学専攻反応工学分野内)
プログラム
10:30–11:30 研究紹介および研究室見学会
京都大学 材料化学専攻 教授 田中 勝久 氏
京都大学 化学工学専攻 教授 河瀬 元明
11:30–12:45 昼休み
12:45–13:00 令和4年度CVD研究会総会
13:00–13:50 「HiPIMS法によるDLC成膜技術の応用」
ナノテック株式会社 取締役 平塚 傑工 氏
13:50–14:40 「反応性物質の活用で拓くシリコン系CVDプロセスの可能性」
横浜国立大学 名誉教授 反応装置工学ラボラトリー 羽深 等 氏
14:40–14:50 休憩
14:50–15:40 「不純物でスパッタ膜のモフォロジーを制御する ～アモルファスからエピ膜まで～」
九州大学 システム情報科学研究院 教授 板垣 奈穂 氏
15:40–16:30 「MOCVD法による強誘電体薄膜及びナノ構造の作製」
兵庫県立大学 工学研究科 電子情報工学専攻 教授 藤沢 浩訓 氏・中嶋 誠二 氏
16:30–17:00 話題提供「Use of Direct Liquid Injection (DLI) vaporization for the CVD and the ALD of various materials for diverse applications」
KEMSTREAM President Herve Guillon 氏

開催日

2022年12月2日10:30 ～ 2022年12月2日17:00

主催者・問い合わせ先

CVD研究会

開催場所

項目内容
場所京都大学 桂キャンパス
住所京都市西京区京都大学桂

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